Aarhus University Seal / Aarhus Universitets segl

Philip Hofmann

Screening and atomic-scale engineering of the potential at a topological insulator surface

Publikation: Bidrag til tidsskrift/Konferencebidrag i tidsskrift /Bidrag til avisTidsskriftartikelForskningpeer review

  • P. Löptien, Hamburg University, Hamburg, Tyskland
  • L. Zhou, Hamburg University, Hamburg, Tyskland
  • J. Wiebe, Hamburg University, Hamburg, Tyskland
  • A.A. Khajetoorians, Hamburg University, Hamburg
  • ,
  • Jianli Mi, Danmark
  • Bo Brummerstedt Iversen
  • Philip Hofmann
  • R. Wiesendanger, Hamburg University, Hamburg, Tyskland
OriginalsprogEngelsk
Artikelnummer085401
TidsskriftPhysical Review B
Vol/bind89
Antal sider7
ISSN2469-9950
DOI
StatusUdgivet - 2014

Se relationer på Aarhus Universitet Citationsformater

ID: 69861398