Dose regularization via filtering and projection: An open-source code for optimization-based proximity-effect-correction for nanoscale lithography

Publikation: Bidrag til tidsskrift/Konferencebidrag i tidsskrift /Bidrag til avisTidsskriftartikelForskningpeer review

DOI

OriginalsprogEngelsk
TidsskriftMicroelectronic Engineering
Vol/bind199
Sider (fra-til)52-57
Antal sider6
ISSN0167-9317
DOI
StatusUdgivet - 5 nov. 2018

Se relationer på Aarhus Universitet Citationsformater

ID: 131849500